美国Universal ULTRA R9000 平台概述
ULTRA R9000 平台为各种材料提供激光材料加工。它的设计非常适合制造、研发、学术研究和原型制作环境中的材料加工。凭借其模块化架构，可轻松重新配置可定制的解决方案，并提供多种选项以增强性能、功能和安全性，从而完成满足当前和未来业务需求的解决方案。
ULTRA R9000 平台具有 48 x 24 英寸（1219 x 610 毫米）的材料处理范围，支持厚度达 12 英寸（305 毫米）的材料。
为可定制的 ULTRA R9000 平台配置多达两个激光源，包括两个可互换的 CO 2激光器或一个 CO 2激光器和一个光纤激光器。当平台配置有两个激光器时，用户可以利用 MultiWave Hybrid™ 技术，将 9.3 µm、10.6 µm 和 1.06 µm 的三个波长中的两个同时组合成一个同轴光束。光束的每个光谱分量都是独立控制的，并且可以实时调制。
主要功能和选项包括多激光支持、快速激光束定位、与材料无关的精密自动对焦、可控激光功率密度、自动化接口、多摄像头视觉和配准、过温检测以及对灭火的支持。
| ULTRA R9000 | |
技术 | |
| 多摄像头视觉和配准 * | 一项正在申请专利的功能，通过将设计文件叠加在放置在材料支撑表面上并由激光系统中内置的多个摄像头捕获的材料图像上来提供增强现实用户界面。 AR 用户界面使用控件来促进设计文件的精确对齐，这些控件允许设计文件被定位、旋转和缩放，并通过先进的机器视觉算法实现实时视觉反馈。 此功能还支持使用打印注册标记的传统相机注册工作流程。 |
| 精密材料独立自动对焦 | 电动 Z 轴和高分辨率触摸传感器，重复精度为 ± 0.005 英寸（125 微米）。 |
| SuperSpeed™ 技术 * | 产生两个焦点（每个激光束一个）的专利功能，使系统能够一次提供两条独立控制的光栅线。SuperSpeed 需要配备两个相同波长和功率的CO 2激光器的激光系统。 |
| Multi-Wave Hybrid™ 技术 * | 一项专利技术，可以将激光波长（最多两个波长）的组合聚焦到同一焦平面内的同一焦点上，并按顺序或同时使用。 |
| 快速重新配置™ | 一项专利技术，使用户无需工具或光学校准即可将任何受支持的 ULS CO 2激光源安装和重新安装到任何 ULS 激光系统上，从而优化最广泛材料的激光加工。 |
| 智能材料数据库 | 一个强大的数据库，可为各种材料和激光系统配置生成激光加工参数。如果系统配置发生变化，数据库会自动重新计算参数值。 |
| 21” 触摸屏控制面板 * | 一个完全集成的 21 英寸（533 毫米）触摸面板命令和控制台，用于控制激光系统的操作。 |
| 自动化接口 * | 可以接收输入信号并提供输出信号的可寻址设备。使激光系统能够控制外部设备并允许外部设备启动激光系统功能。 |
| 激光系统管理器 (LSM) | 具有高度功能和控制的高级用户界面，使用户能够有效地管理设计文件和激光材料加工参数。 |
| 行业标准交换格式支持 | 支持行业标准图形交换格式（包括 DXF、PDF 和 G-Code）的软件功能。 |
| 设计文件重定位和复制控制 | 一组用户控件，用于在材料处理领域的任何位置重新定位或复制设计文件。 |
| 切口补偿 | 用户可调节控件，可补偿激光切割过程中去除的材料宽度，以便在不更改设计文件的情况下获得所需尺寸。如果设计中存在，它会保持真实的弧形和圆形几何形状。 |
| 矢量加速度控制 | 用户可调节控件，用于为每个控制文件定义矢量运动的加速度。 |
| 用户访问管理 | 用于管理多个用户帐户和权限的软件管理功能。 |
| 动态能量稳定 | 无论运动系统的速度如何，都能保持均匀的激光能量输送。 |
| 智能路径规划器 | 一种综合路径规划算法，可最大限度地缩短激光加工完成时间。 |
| 真宽光栅处理 | 消除了运动系统超出光栅图像边缘的需要的功能。 |
| 设计文件几何保存 | 在设计文件中维护曲线（即圆、椭圆、b 样条、Bezier 和 NURBS）并确保在整个路径规划过程中保留曲线而不是使用线性插值的特征。 |
| 线段缩减 | 一个用户控件，用于减少某些设计文件中包含的过度线分段。 |
| 路径偏差控制 | 用于调整与预期路径的允许偏差以增加吞吐量的用户控件。 |
光学 | |
| 可控激光功率密度 4X 1X / 13X * | 一项正在申请专利的功能，可提供控制激光功率密度的独特能力，同时保持焦平面与材料表面的高度对准精度以及高斯光束分布。 功率密度：1X（可用）、4X（包括）或 13X（可用），用于 10.6 μm 和 9.3 μm 波长；52X 用于 1.06 μm 光纤波长（包括在内）。 归一化功率密度 (watts/cm2) = 功率密度系数 x 103 x 平均激光功率 (watts)。归一化功率密度是材料加工激光器的功率除以在 1/e2 处测量的焦斑面积。 |
气体辅助 | |
| 可编程气体辅助 | 允许用户在控制文件中逐个过程对气体类型和流速进行编程的功能。 |
| 光学保护 | 在加工过程中保护光学元件的清洁空气屏障。 |
| 同轴气体辅助附件 | 引导空气（或气体）垂直于材料表面的气体辅助附件。 |
| 横向气体辅助附件 * | 一种可调节的气体辅助附件，可将空气（或气体）横向或以一定角度引导至材料表面。 |
| 空气压缩机 * | 一种压缩空气源，可为光学保护和气体辅助激光加工提供最佳调节、清洁、干燥和无油的空气。 |
材料处理 | |
| 多功能材料支撑结构 | 内置铝蜂窝工作台面设计用于在激光加工过程中保持材料静止和聚焦。减少背反射，并能够从材料下方排出激光加工副产品。包括一个全场掩蔽材料分配器。 可使用机加工铝瓦、材料支撑销和真空助推器进行配置。 |
| 机加工铝瓦 * | 一种为激光材料加工提供刚性和光滑工作表面的附件。与切割工艺一起使用时，建议使用兼容的材料支撑销。 |
| 材料支撑销 * | 一组用于激光切割的定制机加工销，可插入多功能材料支撑结构或机加工铝瓦。针脚在目标材料和工作表面之间增加了足够的空间以消除背反射。 |
| 真空助推器 * | 一种外部附件，可显着增加多功能材料支撑结构表面与环境/大气压力之间的压差，以保持材料静止。 |
| 用于直通的 4 类转换模块 * | 一项专利技术，使激光系统能够促进材料通过，符合 CDRH 和运行 4 类激光系统的国际安全法规。这个可选的附加模块将一个完全封闭的 1 类系统转换为一个开放的 4 类系统。 |
| 转轴模块 * | 可对圆柱体、球形和锥形物体进行 360° 旋转激光加工的附件。可寻址分辨率为 13 弧秒。 |
空气过滤和处理 | |
| 智能空气过滤 UAC 4000 * | 一种外部附件，使用获得专利的双碳过滤器和传感器套件（用于 CO 和 VOC），可过滤掉激光加工副产品，监控每个阶段的过滤性能，并在达到预定义的污染物阈值时提醒操作员。直接连接到激光系统以通过激光处理打开和关闭过滤，并传达 UAC 4000 各个方面的状态。 |
安全和设施 | |
| 过温检测 | 一种安全功能，旨在禁用所有激光源，使运动系统归位，并在检测到激光加工区域异常高温时触发声音警报。 |
| 安全联锁 | 根据所有主要国际安全标准的要求，当检修门打开时禁用激光源的安全功能。 |
| 激光阻挡夹层安全玻璃 | 带有适当波长过滤介质的防碎多层夹层安全玻璃。满足 10.6 µm、9.3 µm 和 1.06 µm 波长激光辐射的激光安全要求 OD 5+。 |
| 带迷宫密封的金属外壳 | 根据国际安全法规的要求，一种由重叠法兰组成的设计特征，所有外壳门或检修面板都必须具有该特征，以防止视线直接进入外壳。 |
| 急停 | 一个高度可见的符合标准的按钮。一旦按下，所有激光源、运动系统和其他控制机制的直流电源将立即关闭，同时中止所有系统操作。 |
| 灭火 * | 如果检测到自持燃烧，可将灭火剂部署到激光材料加工区域的专利附件。 |
规格 | |
| 材料加工包络线 (X,Y,Z) | 48 x 24 x 12 英寸（1219 x 610 x 305 毫米） |
| 最大有效光栅材料处理速度 | >200 in./sec (5080 mm/sec) [需要 SuperSpeed™ 操作] |
| 多激光支持 | 最多可单独使用 2 个激光源或组合使用 激光源
激光源组合
支持 CO 2激光器的快速重新配置 |
| 最大激光功率 | CO 2 : 300 瓦 光纤: 50 瓦 |
| 系统外形尺寸 | 宽度：71.0 英寸（1803 毫米） 深度：44.0 英寸（1118 毫米） 高度：48.0 英寸（1211 毫米） |
| 重量 | 500 磅（227 公斤） |
| 电源要求 | 220V-240V/16A（300 瓦配置需要大功率套件和 25A） |
| 排气要求 | 智能空气过滤 (UAC 4000) 或外部排气鼓风机在 6 in. WG 静压下能够达到 >700 CFM（1190 m3/hr. at 1.5 kPa） 6 in. (152mm) 排气口 |
| 计算机要求 | 最低要求：Intel I3 处理器（或同等产品），至少 8 Gb 内存，Windows 10 操作系统，并通过 USB 电缆连接到激光系统。 如果配置了可用的 21 英寸触摸屏控制面板，则不需要计算机 |
| 激光安全分类 | 用于材料加工激光的 1 类 红色激光指示器，整体为 2 类 可以通过可用的 4 类模块转换为 4 类 |
| 笔记 | 重量为近似值，因激光源选择而异 * 可用功能 |